ASML明年將生產(chǎn)10臺(tái)2nm設(shè)備 英特爾已搶下6臺(tái)
摘要:近日有消息稱,ASML將于未來(lái)幾個(gè)月內(nèi)推出2nm制程節(jié)點(diǎn)制造設(shè)備,并計(jì)劃在2024年生產(chǎn)10臺(tái)2nm設(shè)備,英特爾已采購(gòu)其中6臺(tái)。新一代的高數(shù)值孔徑 (High-NA) EUV光刻機(jī)可以將聚光能力從0.33提高至0.55,能夠獲得更精細(xì)的曝光圖案,用于2nm制程節(jié)點(diǎn)。未來(lái)幾年,ASML希望將這種最新設(shè)備的產(chǎn)能提高至每年20臺(tái)。
閱讀:10372023年12月20日 10:52:16