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半導體資本支� 今年�12�

編輯:admin 2014-04-25 09:16:46 瀏覽�706  來源:工商時�

半導體資本支出 今年多12%0

半導體廠開始衝刺先進製程產能,英特爾、三星、臺積電等廠的資本支出規畫,就占全球�5成以上。圖/本報資料照片全球半導體製造設備支出預�

  由于半導體市場庫存水位提前去化完成,在晶圓廠產能利用率明顯回升、及智慧型手機等行動裝置需求暢旺下,市場調查機構Gartner昨(24)日預估,今年全球半導體資本支出規模將年�5.5%達609.34億美元,其中用在設備採購的資本設備支出(capital equipment spending),則將較去年成�12.2%、來�375.22億美元新高�

  Gartner研究副總裁Bob Johnson表示�2013年半導體資本支出年減1.6%,但資本設備支出及晶圓廠設備支出(wafer fab equipment spending)的年減幅度都大于資本支出年減率,不�2014年市況將出現反轉,今年全球資本支出年增率�5.5%,但資本設備支出將年增12.2%,晶圓廠設備支出年增率更高�13%,主要是受惠于半導體廠開始衝刺先進製程產能�

  Bob Johnson表示�2013年Q4半導體市場銷售情況強勁,并延續到今年Q1,預估今年市場將在平穩的成長曲線上來回波段,但就長期來看,成長將延續�2015年,2016年小幅衰退,接著又一路成長到2018年�

  以分類來看,邏輯IC的積極擴產是預估資本支出成長的主要動能,但未來幾年當中,NAND Flash的擴產將是設備投資成長主要動能。而資本支出的大者恆大情況也十分明確,包括英特爾、臺積電、三星等3大廠的資本支出規畫,就占全球總支出的5成以上,今年�10大廠的資本支出占全球總支出比重將上看78%�

  Gartner也指出,半導體市場庫存水位過高導致晶圓廠利用率下滑,�2013年下半年投資放緩的原因,但智慧型手機及平板電腦的需求仍強,尤其需要大量的先進製程產能支援邏輯IC生產,所以預估今年晶圓廠的產能利用率會逐步成長�

  Gartner預估,去年底的全球晶圓廠產能利用率約略高�80%,但今年開始隨著庫存水位完成去化并回到正常水準,晶圓廠產能利用率預估將會在年底回升�90%左右,其中先進製程的產能利用率,全年都將維持�95%以上的滿載水準�

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