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四川啟動實施集成電路與新型顯示重大科技專項

編輯:chinafpd 2023-10-17 10:49:48 瀏覽:932  來源:

  成都日報記者從四川省科技廳獲悉,科技廳于近日啟動實施四川省先進(jìn)材料、裝備制造、電子信息等六大優(yōu)勢產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域首批3個重大科技專項,推進(jìn)關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)、重大創(chuàng)新產(chǎn)品研發(fā)、成果轉(zhuǎn)移轉(zhuǎn)化示范。

  據(jù)介紹,首批重大科技專項為:一是釩鈦稀土重大科技專項。圍繞釩鈦、稀土兩大領(lǐng)域,布局9項重大攻關(guān)任務(wù),著力研發(fā)15個重大創(chuàng)新產(chǎn)品,突破28項關(guān)鍵核心技術(shù)。二是軌道交通重大科技專項。圍繞高速鐵路、山地齒軌、重大鐵路三大領(lǐng)域,布局9項重大攻關(guān)任務(wù),著力研發(fā)21個重大創(chuàng)新產(chǎn)品,突破13項關(guān)鍵核心技術(shù)。三是集成電路與新型顯示重大科技專項。圍繞集成電路、新型顯示兩大領(lǐng)域,布局14項重大攻關(guān)任務(wù),著力研發(fā)15個重大創(chuàng)新產(chǎn)品,突破36項關(guān)鍵核心技術(shù)。

  全面屏柔性AMOLED顯示技術(shù)研究

  (1)研究內(nèi)容。面向柔性AMOLED全面屏超高屏占比、無開口屏下攝像功能等需求,開展柔性AMOLED面板多種像素密度混合驅(qū)動設(shè)計、研制工藝和測試技術(shù)研究;研究攝像頭對應(yīng)區(qū)域高像素密度、高M(jìn)DL透過率、高亮度和高壽命顯示等關(guān)鍵技術(shù),相關(guān)指標(biāo)滿足產(chǎn)業(yè)化要求。

  (2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權(quán)發(fā)明專利3件以上,形成全面屏產(chǎn)品2~3個。技術(shù)成果應(yīng)用于新一代屏下攝像手機(jī),形成真正意義上的全面屏。

  (3)有關(guān)說明。擬支持1項,支持專項資金不超過1000萬元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費(fèi)與申請專項資金比例不低于2:1。

  高畫質(zhì)低功耗可折疊柔性AMOLED顯示技術(shù)研究

  (1)研究內(nèi)容。開展柔性AMOLED超薄堆疊結(jié)構(gòu)仿真與設(shè)計,降低功耗的同時不影響顯示畫質(zhì);研究開發(fā)超薄可彎折高折射率材料,滿足厚度需求與信賴性測試標(biāo)準(zhǔn);開展彎折堆疊設(shè)計研究,通過優(yōu)化堆疊設(shè)計,避免EES結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有堆疊發(fā)生分層、斷裂等。研發(fā)可折疊柔性AMOLED顯示產(chǎn)品,其彎曲半徑、功耗、顯示MDL反射率和厚度、常溫動態(tài)彎折、溫濕度條件動態(tài)彎折等技術(shù)指標(biāo)性能優(yōu)異。

  (2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權(quán)發(fā)明專利3件以上,形成產(chǎn)品2-3個。技術(shù)成果應(yīng)用于高分辨率超薄柔性折疊終端屏,支持大尺寸柔性顯示終端制造。

  (3)有關(guān)說明。擬支持1項,支持專項資金不超過1000萬元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費(fèi)與申請專項資金比例不低于2:1。

  8K激光移軸變焦投影關(guān)鍵技術(shù)研究

  (1)研究內(nèi)容。開展基于振鏡組合DLP芯片的方案設(shè)計,縮小光學(xué)系統(tǒng)體積;研究移軸鏡頭技術(shù),實現(xiàn)影像位置電動調(diào)整;突破鏡頭自動調(diào)焦技術(shù),解決調(diào)整后不同位置畫質(zhì)和解析度變差的問題;突破振鏡自動相機(jī)優(yōu)化技術(shù),實現(xiàn)振鏡參數(shù)最優(yōu)化,確保像質(zhì)最佳。研發(fā)高解析、高亮度、高色域8K激光移軸長焦投影顯示產(chǎn)品。

  (2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權(quán)發(fā)明專利3件以上,形成產(chǎn)品2~3個。技術(shù)成果應(yīng)用于激光投影顯示生產(chǎn)企業(yè),并實現(xiàn)批量化生產(chǎn)。

  (3)有關(guān)說明。擬支持1項,支持專項資金不超過560萬元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費(fèi)與申請專項資金比例不低于2:1。

  超低散斑激光顯示光學(xué)屏技術(shù)研究

  (1)研究內(nèi)容。研究激光顯示中復(fù)合散斑的自相關(guān)特性和功率譜分布,建立復(fù)合散斑模型和實驗方法,突破光學(xué)屏領(lǐng)域散斑抑制技術(shù);建立光學(xué)屏融合架構(gòu)的光學(xué)仿真、光利用效率的評價體系和測試方法,為行業(yè)提供更高效評價標(biāo)準(zhǔn),促進(jìn)行業(yè)技術(shù)升級;研究基于微納結(jié)構(gòu)的表面光整形技術(shù),突破現(xiàn)有光擴(kuò)散技術(shù)的能量利用極限,提升屏幕的光利用效率,實現(xiàn)光機(jī)小型化、節(jié)能化的環(huán)保需求;開展基于粒子的光散射、吸收和輻射模型研究,實現(xiàn)更優(yōu)異的光散射分布,達(dá)到超清與均勻畫質(zhì)的視覺效果。

  (2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權(quán)發(fā)明專利3件以上,制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)1項,形成產(chǎn)品2~3個。大尺寸高分辨率激光投影顯示屏產(chǎn)品在家用環(huán)境、影院環(huán)境等場景取得良好應(yīng)用示范效果。

  (3)有關(guān)說明。擬支持1項,支持專項資金不超過560萬元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費(fèi)與申請專項資金比例不低于2:1。

  高世代產(chǎn)線用高精度掩膜版技術(shù)研究

  (1)研究內(nèi)容。開展掩膜版涂布技術(shù)研究,掌握G6及以上產(chǎn)線高精度光阻涂布技術(shù),實現(xiàn)該尺寸領(lǐng)域光阻涂布技術(shù)自主化;開展高精度激光直寫技術(shù)研究,掌握高PPI圖形Mura控制技術(shù)、多圖形混版Mura控制技術(shù);開展圖形精度測量及校正技術(shù)研究,掌握高精度DCM補(bǔ)償技術(shù);開展高精度缺陷修復(fù)技術(shù)研究,掌握高PPI圖形、復(fù)雜圖形修復(fù)技術(shù)。

  (2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權(quán)發(fā)明專利3件以上,形成產(chǎn)品2-3個,研究成果應(yīng)用于G6及以上高精度二元及半色調(diào)掩膜版的生產(chǎn)制造。

  (3)有關(guān)說明。擬支持1項,支持專項資金不超過560萬元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費(fèi)與申請專項資金比例不低于2:1。

  AMOLED用磷光發(fā)光材料國產(chǎn)化關(guān)鍵技術(shù)研究

  (1)研究內(nèi)容。開展OLED發(fā)光材料有機(jī)分子發(fā)光過程激發(fā)態(tài)調(diào)控、分子設(shè)計、發(fā)光器件優(yōu)化等方面研究,完成OLED有機(jī)發(fā)光材料紅、綠、藍(lán)發(fā)光和主體材料結(jié)構(gòu)研制并滿足工業(yè)應(yīng)用,形成具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)的有機(jī)磷光發(fā)光材料的國產(chǎn)化供應(yīng)。

  (2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權(quán)發(fā)明專利3件以上,形成產(chǎn)品2~3個,發(fā)光材料應(yīng)用于OLED生產(chǎn)廠家。

  (3)有關(guān)說明。擬支持1項,支持專項資金不超過760萬元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費(fèi)與申請專項資金比例不低于2:1。

  大幅寬PMMA偏光片基膜關(guān)鍵技術(shù)研究

  (1)研究內(nèi)容。開展大寬幅PMMA基膜制備關(guān)鍵技術(shù)研究,掌握光學(xué)樹脂共擠技術(shù)和共擠特種配方,克服PMMA材料脆性缺陷導(dǎo)致的邊部破膜問題;掌握寬幅雙向同步光學(xué)拉伸技術(shù),在2.5米大寬幅、超薄、超高運(yùn)行機(jī)速情形下,位相差等光學(xué)性能均一。

  (2)考核指標(biāo)。研制具有低透濕性、高透過率、位相差均一的大寬幅偏光片基膜,突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權(quán)發(fā)明專利3件以上,形成產(chǎn)品2~3個,產(chǎn)品支撐新型顯示光學(xué)薄膜核心膜材國產(chǎn)化制備。在大寬幅偏光片生產(chǎn)廠家取得應(yīng)用。

  (3)有關(guān)說明。擬支持1項,支持專項資金不超過560萬元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費(fèi)與申請專項資金比例不低于2:1。

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